蘭ASMLがツァイス子会社に出資、次世代露光装置の開発加速へ

半導体製造装置の世界最大手メーカーである蘭ASMLは3日、独光学機器大手カール・ツァイス子会社のカール・ツァイスSMTとの協力関係を強化すると発表した。極端紫外線リソグラフィ(EUV)技術を用いた次世代半導体露光装置(ステッパー)の開発を加速することが狙いで、SMTに総額17億6,000万ユーロを投資する。次世代ステッパーを2020年代初頭に市場投入する計画だ。

SMTの資本24.9%を10億ユーロで取得するほか、SMTの研究開発や設備投資などの支援に今後6年間で計7億6,000万ユーロを投じる。出資比率をさらに引き上げる計画はない。

SMTはステッパーの光学部品を手がけており、ASMLとは30年以上前から提携。EUV露光装置は両社にレーザー大手の独トルンプを加えた3社で開発を進めている。同露光装置が実用化されると、半導体の性能が大幅に向上するうえ、生産コストも大きく低下することから、半導体業界で大きな期待を集めている。

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