半導体集積回路(LSI)の次世代微細化技術として有望視されている極端紫外線リソグラフィ(EUVL)システムが数年後に実用化される見通しだ。独光学大手ツァイスのミヒャエル・カシュケ社長が『フランク...
2016/10/19
経済産業情報
LSIの次世代微細化技術、実用化が視野に
この記事の要約
半導体集積回路(LSI)の次世代微細化技術として有望視されている極端紫外線リソグラフィ(EUVL)システムが数年後に実用化される見通しだ。独光学大手ツァイスのミヒャエル・カシュケ社長が『フランク…この記事はドイツ経済 […]
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